Lunedì 15 ottobre 2012, ore 17 (ore 11 di Roma) presso la Sala ICE, piano 19, Changle Road 989 Shanghai, verrà presentato alla Stampa la seconda fase della prima edizione 2012 del Premio Shanghai – Residenze artistiche per giovani artisti italiani e cinesi emergenti.
Il Ministero per gli Affari Esteri – Istituto Italiano di Cultura (IIC), Sezione di Shanghai, il Ministero per i Beni e le Attività Culturali – Direzione Generale per il paesaggio, le belle arti, l’architettura e l’arte contemporanee (PaBAAC), e l’Istituto Garuzzo per le Arti Visive – (IGAV), promuovono la seconda fase della prima edizione 2012 del Premio Shanghai – Residenze artistiche per giovani artisti italiani e cinesi emergenti.
Il Premio Shanghai è un concorso rivolto a giovani italiani e cinesi tra i 18 e i 35 anni di età che operano nell’ambito delle arti figurative. Il Premio è stato attribuito attraverso una selezione concorsuale a tre giovani artisti italiani (I Fase del premio) e sara’ ora attribuito a tre giovani artisti cinesi (II Fase del premio), nell’intento di promuovere e favorire la ricerca artistica e culturale tra i due Paesi, individuando le esperienze più promettenti.
Il Premio Shanghai si propone di offrire a giovani artisti italiani e cinesi reali opportunità di crescita artistica e professionale offrendo loro due mesi di residenza artistica rispettivamente in Cina ed in Italia, dove avranno modo di conoscere ed integrarsi con la cultura locale, di essere seguiti da un tutor e di realizzare ed esporre il loro lavoro. I materiali, inviati alla Segreteria organizzativa entro il 30 novembre 2012, saranno giudicati da una Commissione Artistica composta da tre esperti designati da ciascuna Istituzione.
Per il Ministero degli Affari Esteri sono presenti
• Vincenzo De Luca, Console Generale d’Italia a Shanghai
• Carlo Molina, Direttore IIC Shanghai
• Alberta Lai, DG Sistema Paese/ Ufficio IV, con collegamento skype
Per il Ministero per i Beni e le Attività Culturali sono presenti, con collegamento skype
• Maddalena Ragni, Direttore Generale
• Maria Grazia Bellisario, Direttore del Servizio Architettura e Arte Contemporanee
E’ stato invitato a partecipare:
• Min. Plen. Patrizio Fondi, Consigliere Diplomatico del Ministro
Per l’Istituto Garuzzo per le Arti Visive – IGAV sono presenti con collegamento skype
• Rosalba Garuzzo, Presidente IGAV
• Cristina Cavaglia’, Direttore organizzativo IGAV
Alla Conferenza Stampa sono presenti anche i tre artisti italiani selezionati per la residenza artistica a Shanghai nel corso della I Fase del Premio:
• Domenico Antonio Mancini, da Napoli
• Susanna Pozzoli, da Chiavenna (Sondrio)
• Nadir Valente, da Carmagnola (Torino)
• Yang Jiangpin, Vicepreside della Facolta’ di Belle Arti dell’Universita’di Shanghai, istituzione ospitante gli artisti italiani vincitori.
Il bando del Premio Shanghai sara’ consultabile a partire dal 15 ottobre sui siti web delle Istituzioni promotrici (www.beniculturali.it, www.pabaac.beniculturali.it, www.iicshanghai.esteri.it, www.igav-art.org).
I partecipanti possono richiedere ulteriori informazioni alla Segreteria organizzativa – Istituto Italiano di Cultura – Sezione di Shanghai (segreteria.iicshanghai@esteri.it, tel. 0086 21 54075588 int. 157).
